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【真空镀膜机概述】： 真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子抢加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 真空镀膜机构造的五大系统：排气系统、控制系统、蒸镀系统、监控系统、辅助系统。 真空镀膜三要素：真空度、抽气时间、温度；任何镀膜工艺都需要为这三个要素设定目标值；因此，只有当三个条件同时满足时，自动化程序才会自动运行。 真空镀膜机需要做定期定期保养，目的在于：让镀膜机能长时间地正常运转；降低故障时间，避免影响产能，减少损失；提高机器精度，稳定品质；加快抽气速度，提升机器利用率等。真空镀膜设备的主要应用。山西真空镀膜设备 pdf

【真空镀膜机常见故障】: 一、 当正在镀膜室真空突然下降 1. 蒸发源水路胶圈损坏（更换胶圈） 2. 坩埚被打穿（更换坩埚） 3. 高压电极密封处被击穿（更换胶圈） 4. 工转动密封处胶圈损坏（更换胶圈） 5. 预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀） 6. 高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀） 7. 机械泵停机可能是继电器断开（检查继电器是否工作正常） 8. 烘烤引入线电极密封处被击穿（更换胶圈） 9. 挡板动密封处胶圈损坏（更换胶圈） 10. 玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂（更换玻璃） 二、长期工作的镀膜机抽真空的时间很长且达不到工作真空、恢复真空、极限真空、保真空： 1. 蒸发室有很多粉尘（应清洗） 2. 扩散泵很久未换油（应清洗换油） 3. 前级泵反压强大太机械泵真空度太低（应清洗换油） 4. 各动密封胶圈损坏（更换胶圈） 5. 由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化（更换胶圈） 6. 蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏（更换胶圈） 7. 各引入座螺钉、螺母有无松动现象（重新压紧） 8. 高低预阀是否密封可靠（注油）广东国内真空镀膜设备厂家国产真空镀膜设备哪家好？

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜料点】： 膜料点不良也是镀膜产品的一个常见问题，在日企、台企把膜料点称为“斑孔”。顾名思义，膜料点就是蒸镀中，大颗粒膜料点随着膜料蒸汽分子一起蒸镀到了基片的表面。在基片表面形成点状的突起，有时是个别点，严重时时成片的细点，大颗粒点甚至打伤基片表面。 改善对策： 1. 选择杂质少的膜料 2. 对易飞溅的膜料选择颗粒合适的膜料 3. 膜料在镀前用网筛筛一下 4. 精心预熔 5. 用一把电子抢镀制几种膜料时，防止坩埚转动中膜料参杂及挡板掉下膜料渣造成膜料污染。 6. 尽Zui大可能使用蒸发舟、坩埚干净。 7. 选择合适的蒸发速率及速率曲线的平滑。 8. 膜料去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥。

【真空蒸镀的历史】：1857年Michael FaradayZui早提出基本原理，而后、1930年代由于油扩散式真空泵实用化、蒸镀主要用于制作镜片防反射膜。第二次世界大战时，其他的光学机器对材料的需求提高，真空蒸镀也因此快速发展。 【真空蒸镀的原理】：在真空状态下，加热蒸发容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉积在目标物体表面，形成固态薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为:抵抗加热、电子束、高周波 诱导、雷射等加热方式。蒸镀材料有铝、亚铅、金、银、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物与氟化物。蒸镀除金属外，树脂与玻璃也可以使用、近年来连纸也变成可蒸镀。 【蒸发镀膜的优缺点】： 优点：设备简单、容易操作；成膜的速率快，效率高。 缺点：薄膜的厚度均匀性不易控制，蒸发容器有污染的隐患，工艺重复性不好，附着力不高。真空镀膜设备详细镀膜方法。

【真空镀膜反应磁控溅射法】： 制备化合物薄膜可以用各种化学气相沉积或物理qi相沉积方法。但目前从工业大规模生产的要求来看，物理qi相沉积中的反应磁控溅射沉积技术具有明显的优势，因而被guang泛应用，这是因为： 1、反应磁控溅射所用的靶材料(单元素靶或多元素靶)和反应气体(氧、氮、碳氢化合物等)通常很容易获得很高的纯度，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。 2、反应磁控溅射中调节沉积工艺参数，可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的。 3、反应磁控溅射沉积过程中基板温度一般不会有很大的升高，而且成膜过程通常也并不要求对基板进行很高温度的加热，因此对基板材料的限制较少。 4、反应磁控溅射适于制备大面积均匀薄膜，并能实现单机年产上百万平方米镀膜的工业化生产。但是反应磁控溅射在20世纪90年代之前，通常使用直流溅射电源，因此带来 了一些问题，主要是靶中毒引起的打火和溅射过程不稳定，沉积速率较低，膜的缺陷密度较高，这些都限制了它的应用发展。真空镀膜设备认准成都国泰真空设备有限公司。广东国内真空镀膜设备厂家

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【为什么要在真空中镀膜】：1.镀的过程中不会受空气分子碰撞,有较大的动量到达待镀件表面2.防止气体“污染”.如：镀金属膜时可以防止氧化3.成膜过程不受气体影响,致密牢固4.真空（负压）状态下,镀膜材料的熔点教常压下低,易于融化蒸发（对于蒸发类型的镀膜）真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得明显技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为Zui具发展前途的重要技术之一，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。山西真空镀膜设备 pdf